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渐晕现象

在理想情况下，轴上点和轴外点的光束都受孔径光阑的限制，有基本相同的光束孔径角，如果视场不太大，整个视场的像面照度基本均匀。它可是光学元件（透镜、反射镜等）本身的边框，也可是另外设置的带孔不透明屏。然而在实际光学系统中，轴外点成像光束往往受其他光学零件通光孔的限制，结果是轴外点的光束孔径角比轴上点的小得多。这是因为要使轴外点也以充满入射光瞳的光束成像时，那些远离孔径光阑的透镜需要有相当大的直径，并且对全孔径轴外光束校正好像差也非常困难。因此，为了改善轴外点的成像质量、也为了光学零件的横向尺寸不特别大，常用适当减小某几个透镜直径的方法来对轴外光束作必要的限制。这种轴外点发出充满入射光瞳的光束被某些光学零件部分拦截而不能全部通过光学系统的现象，称为光束渐晕。轴外点离光轴越远，拦截现象（即渐晕）越严重，结果是视场外围的像面照度大大降低。当然，绝大部分光学系统都允许存在一定程度的渐晕。

显微镜的成像原理就是利用上述3和5的规律把物体放大的。当物体处在物镜前F-2F（F为物方焦距）之间，则在物镜像方的二倍焦距以外形成放大的倒立实像。

在显微镜的设计上，将此像落在目镜的一倍焦距F1之内，使物镜所放大的次像，又被目镜再一次放大，终在目镜的物方、人眼的明视距离（250mm）处形成放大的直立虚像。因此，当我们在镜检时，通过目镜看到的像与物体方向相反。

 光学精密加工的新装备体现了当今装备制造的技术，

被欧美日发达***所掌控，并实行出口管制。此外，孔径光阑的位置还与像差校正和系统各光学零件的横向尺寸有关，应在设计时合理确定。在微光、红外、激光等光电子技术发展的基础上，为了满足作战使用和科研试验的要求，军事领域主要发展了光学遥感技术、光电制导技术、光电跟踪测量技术、光电对抗技术等光电综合应用技术。光学系统要求成像质量好、体积小、重量轻、结构简单，促进了光学设计和加工领域的一系列大规模技术革命和活动，

 光学在仪器与装备应用领域，充分体现了其超精密加工的技术水平。孔径光阑多个光阑中对光束的限制作用，即决定成像光束大小的那个光阑，又称有效光阑。以集成电路制造业为例，光刻技术是集成电路制造产业的核心，决定集成电路的元件特征尺寸。军事领域是目前光学技术应用为广泛、深入的领域，涵盖了从紫外到红外全部电磁波波段，以及从光的产生、传输、探测、处理到光与物质的相互作用等光学技术应用。长焦距、电动变焦镜头适应了对远距离、大范围室外监控的需要。为应对海岸、港口、河道、森林、阴雨雾霾等各种恶劣环境的监控